EDI电除盐纯水设备 纯净水设备 厂家价位

反渗透纯水系统根据不同的源水水质采用不同的工艺。一般自来水经一级反渗透系统处理后，产水电导率＜10μS/cm，经二级反渗透系统后产水电导率＜2μS/cm甚至更低，在反渗透系统后辅以离子交换设备或EDI设备可以制备**纯水，使电阻率达到15-18.2兆欧姆以上(电导率=1/电阻率)。
为了保证反渗透系统的正常运行及延长反渗透膜元件的使用寿命，当反渗透系统运行一段时间后为去除碳酸钙垢、水中金属氧化物垢、 生物滋长（、、霉菌等）等物质就需要对系统进行清洗。

反渗透膜分离技术杂质去除范围广。
较高的脱盐率和水回用率，可截留粒径几个纳米以上的溶质。

后处理部分主要是对反渗透主机制取的纯水作进一步的处理，如果后续工艺接离子交换或电去离子（EDI）设备，则可以制取工业用**纯水，如果是用在民用直饮水工艺上，则常常接后置杀菌装置，例如可以接紫外线杀菌灯或者臭氧发生器，从而使出来的水可以直接饮用。

制备精细化工、化学试剂等纯水设备的工艺流程 
采用离子交换方式，其流程如下： 
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透→中间水箱→中间水泵→混床→纯水箱→纯水输送泵→用水点
半导体清洗**纯水设备应用场合： 
☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 ☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液 
☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水 
☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水 
☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液 
☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制 
☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片 
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏 
☆高品质显像管、萤光粉生产 
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗 
☆**纯材料和**纯化学试剂、**纯化工材料 
☆实验室和中试车间 
☆汽车、家电表面抛光处理 
☆光电产品、其他高科技精微产品
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