清洗**纯水设备 矿泉水设备 生产厂家

反渗透是利用压力差为动力的膜分离过滤技术，源于美国二十世纪六十年代宇航科技的研究，后逐渐转化为民用，反渗透膜的孔径很小，它能去除滤液中的离子范围和分子量很小的**物，目前已广泛运用于科研、生物、工程、食品、饮料、海水淡化等领域。而在工业用**纯水，例如电子、电力**纯水，化工，电镀**纯水，锅炉补给水及用**纯水的制备上常被用来作为去离子，电去离子（EDI）的**级处理，相对于传统采用离子交换树脂作为前期预处理工艺方法，反渗透具有更经济，更节能，运行更稳定，水质更可靠的优点，而且可以延长后级离子交换树脂的再生周期及电去离子（EDI）的清洗周期。
电镀涂装行业中，为了增加镀件表面光洁度、亮度、附着力，电镀液的配制需要用电导率在15uS/cm以下的纯水;另外在镀件漂洗时也需用电导率在10uS/cm以下电镀纯水来清洗，电镀行业用水处理系统包括电镀前电镀液配制用纯水系统、电镀漂洗废水中稀有金属回收漂洗水循环利用电镀废水处理零排放系统。通常系统由预处理,超滤，反渗透(RO)，离子交换，EDI设备等组成，以满足电镀行业对各种水质的要求。

*二种采用一级反渗透，其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高，但无须树脂再生。其缺点在于相关膜原件需定期清洗或更换，水质相对来说不是太高，大都只能做到10us/cm左右，所以在不质要求更高的时候常采用一级反渗透后面再用混床（阴阳复床）把关。

采用反渗透方式，其流程如下： 
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→反渗透 →纯水箱→纯水泵→用水点

反渗透主机主要由增压泵，膜壳，反渗透膜，控制电路等组成，是整个水处理系统中的核心部分，产水水质的好坏主要也取决该部分只要膜的型号及增压泵的型号选取得当，反渗透主机对水中盐分的过滤能力都能达到99%以上,出水电导率可保证在10us/cm（25度） 以内。
半导体清洗**纯水设备应用场合： 
☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 ☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液 
☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水 
☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水 
☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液 
☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制 
☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片 
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏 
☆高品质显像管、萤光粉生产 
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗 
☆**纯材料和**纯化学试剂、**纯化工材料 
☆实验室和中试车间 
☆汽车、家电表面抛光处理 
☆光电产品、其他高科技精微产品
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